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產(chǎn)品詳細(xì)頁RYMO反射鏡系列產(chǎn)品26
- 產(chǎn)品型號:
- 更新時間:2023-12-21
- 產(chǎn)品介紹:RYMO反射鏡系列產(chǎn)品26水冷鋁鏡的能力使加工頭的重量更輕,并使切割和焊接速度加快。與同等的銅件相比,鋁的重量和腐蝕程度大大降低。對于1微米的應(yīng)用,鋁反射鏡可以進(jìn)行后拋光,在折疊鏡配置中達(dá)到亞納米級的粗糙度,并沉積有高反射率的電介質(zhì)涂層,用于>20千瓦的功率使用。
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產(chǎn)品介紹
品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
---|---|---|---|
組件類別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,電子 |
RYMO反射鏡系列產(chǎn)品26
用于高功率激光器的水冷鋁反射鏡
水冷鋁鏡的能力使加工頭的重量更輕,并使切割和焊接速度加快。與同等的銅件相比,鋁的重量和腐蝕程度大大降低。對于1微米的應(yīng)用,鋁反射鏡可以進(jìn)行后拋光,在折疊鏡配置中達(dá)到亞納米級的粗糙度,并沉積有高反射率的電介質(zhì)涂層,用于>20千瓦的功率使用。
特點(diǎn)
可提供水冷系統(tǒng)
兼容所有標(biāo)準(zhǔn)的金剛石車削操作
亞納米級的粗糙度(僅平面配置)。
直徑可達(dá)300mm
可提供額外的輕量化選項(xiàng)
耐腐蝕
Aluminum | Copper | |
Density | 2.7 g/cc | 8.94 g/cc |
Thermal Diffusivity | 82 mm2 /s | 113 mm2 /s |
Thermal Diffusivity | 200 W/m•K | 391 W/m•K |
Yield Strength | 200-460 MPa | 195 MPa |
CTE | 0.000024 (µm/m)°C | 0.000017 (µm/m)°C |
Knoop Hardness | 96 | 83 |
RYMO反射鏡系列產(chǎn)品26
硒化鋅5.3-6.0微米寬幅抗反射鍍膜
ZnSe 5.3-6.0 μm的寬幅抗反射(BAR)鍍膜是為了在透鏡和部分反射器的AR側(cè)提供低反射率和高透光率。這種鍍膜對CO激光系統(tǒng)特別有用,可以為任何CO激光波長范圍設(shè)計(jì)。
光譜性能
在設(shè)計(jì)波長下。(5.3-6.0微米)
反射平均值≤0.5%。
透射平均值≥99.0%。
II-VI 是激光光學(xué)領(lǐng)域的優(yōu)良品牌,現(xiàn)在正在擴(kuò)展其產(chǎn)品線,以包括用于一氧化碳 (CO) 激光器的光學(xué)元件和組件。 我們完整的 CO 激光光學(xué)產(chǎn)品系列將為激光系統(tǒng)制造商提供將這項(xiàng)新技術(shù)融入其制造平臺所需的工具。 新型 CO 激光器現(xiàn)在用于材料加工應(yīng)用,例如 PCB 鉆孔以及玻璃、陶瓷和薄膜的切割。 CO 激光器在醫(yī)學(xué)領(lǐng)域和美容程序中也有潛在的應(yīng)用。 CO 系列是對我們現(xiàn)有的 CO2 光學(xué)產(chǎn)品的重要補(bǔ)充,這些產(chǎn)品已經(jīng)服務(wù)于工業(yè)、醫(yī)療和半導(dǎo)體行業(yè)。
能力
可用的高質(zhì)量透射光學(xué)材料- ZnSe、ZnS(MS) 和 Ge
4 - 250 mm 直徑光學(xué)元件
可根據(jù)要求提供定制光學(xué)設(shè)計(jì)(例如非球面、軸錐、球面、自由曲面透鏡等)
定制鍍膜設(shè)計(jì)以滿足特定客戶的要求
擴(kuò)束鏡、多元掃描透鏡、切割頭等光學(xué)組件
能夠?yàn)楣馐干洹⒄耒R和諧振鏡的所有反射材料(例如銅、硅、鋁等)鍍膜。
5-6 µm 鍍膜
II-VI 開發(fā)了一套完整的鍍膜,包括抗反射鍍膜、反射鍍膜、帶選擇諧振器鍍膜、分束器和偏振鍍膜。 這些鍍膜的開發(fā)考慮了 CO 激光器的多條激光線。 這些鍍膜在 5µm - 6µm 范圍內(nèi)具有寬帶覆蓋 CO 光譜。
5-6µm 掃描光學(xué)元件
II-VI 也是完整系列 5 - 6µm 掃描光學(xué)器件的僅有來源。 從用于光束控制的振鏡到用于光束整形的光束擴(kuò)展器,II-VI 可以為您的掃描系統(tǒng)提供一整套光學(xué)器件。 II-VI 還可以為所有激光加工應(yīng)用提供單晶和多晶掃描鏡頭。 對于高性能系統(tǒng),如通孔鉆孔應(yīng)用,II-VI 可以定制設(shè)計(jì)和制造鏡頭,以滿足所有苛刻的要求。
材料特性
光學(xué)特性 | ZnSe | ZnS(MS) | Ge |
體積Abs@ 5.5µm | 0.0004/cm | 0.005/cm | 0.005/cm |
折射率溫度變化@ 3.39µm | 62x10-6/°C | 39x10-6/°C | 396x10-6/°C |
機(jī)械性能 | |||
密度 | 5.27 g/cm3 | 4.09 g/cm3 | 5.32 g/cm3 |
楊氏模量 | 67.2 Gpa | 85.5 Gpa | 100 Gpa |
努氏硬度 | 105-120 kg/mm3 | 150-165 kg/mm3 | 692 kg/mm3 |
泊松比 | 0.28 | 0.27 | 0.27 |
熱性能 | |||
熱導(dǎo)率@ 20°C | 0.18 W/cm/°C | 0.27 W/cm/°C | 0.59 W/cm/°C |
熱膨脹@ 20°C | 7.57x10-5/°C | 6.5x10-5/°C | 5.7x10-5/° C |
吸收式薄膜反射器(ATFR)
吸收式薄膜反射器(ATFR)在銅基底上集成了一個偏振敏感的薄膜反射鍍膜。這種鍍膜最初是為在10.6微米和45°入射角下使用而設(shè)計(jì)的。該鍍膜將反射s-偏振并吸收p-偏振;因此,它須被放置在入射光束為s-偏振的光束傳輸系統(tǒng)中。
在工件高度反射的切割應(yīng)用中,工件的反射可以通過光束傳輸系統(tǒng)傳回激光腔內(nèi)。這在切割的初始階段較有可能發(fā)生。這些反向反射會導(dǎo)致激光腔模式和功率不穩(wěn)定。返回的光束也有可能在激光腔內(nèi)被放大,然后聚焦在一個光束傳輸光學(xué)器件上,導(dǎo)致該光學(xué)器件損壞。
在切割高反射金屬如銅、黃銅或鋁時,使用ATFR特別重要,因?yàn)檫@些材料具有高反射性。用于切割應(yīng)用的光束傳輸系統(tǒng)通過反射相位延遲器(RPRs)將線性偏振轉(zhuǎn)換為圓形偏振。在這種類型的光束傳輸系統(tǒng)中,來自工件的反射能量被RPR轉(zhuǎn)換回線性極化。反射的線性偏振的平面與出射的線性偏振激光束旋轉(zhuǎn)90°。如果光束傳輸系統(tǒng)中的一個鏡子的方向是使出射的激光束是s極化的,那么背反射的能量在這個鏡子上必須是p極化的。
ATFR的特性使其成為防止不需要的反射到達(dá)激光腔的理想鏡子,它吸收反射的p-偏振激光束。
規(guī)格
規(guī)格 | 標(biāo)準(zhǔn) |
反射率 @ 10.6µm, 45o AOI. | ≥ 99.0% (S-pol) ≤1.5%(P-pol) |
0.6328µm的反射率,45o AOI。 | ≥80.0%(R-pol) |
入射角 | S-pol:45o P-pol:45o |
其他波長的光譜性能
波長(μm) | 45°AOI時的反射率 | |
S-pol | P-pol | |
10.24 | ≥ 98.5% | ≤ 3.0% |
9.55 | ≥ 98.5% | ≤ 3.0% |
9.38 | ≥ 98.5% | ≤ 3.0% |
9.28 | ≥ 98.5% | ≤ 3.0% |
9.15 | ≥ 98.5% | ≤ 3.0% |
部件號 | 說明 | 直徑 | 厚度 | ||
英寸 | 毫米 | 英寸 | 毫米 | ||
682239 | Cu | 1.5 | 38.1 | 0.16 | 4.06 |
432326 | Cu | 1.969 | 50.0 | 0.394 | 10.0 |
160586 | Cu | 2.0 | 50.8 | 0.375 | 9.53 |
504774 | Cu | 2.25 | 57.15 | 1.25 | 31.75 |
728695 | Cu | 2.362 | 60 | 0.591 | 15.0 |
255328 | Cu | 3.0 | 76.2 | 0.50 | 12.7 |
目的
在工件具有高反射率的切割應(yīng)用中,工件的反射可以通過光束傳輸系統(tǒng)傳輸回激光腔。 這有可能發(fā)生在切割的初始階段。 這些背反射會導(dǎo)致激光腔模式和功率不穩(wěn)定。 返回的光束也有可能在激光腔中被放大,然后聚焦在其中一個光束傳輸光學(xué)器件上,從而對該光學(xué)器件造成損壞。
工作原理
使用 ATFR 切割高反射金屬(例如銅、黃銅或鋁)尤為重要,因?yàn)檫@些材料對于 10.6μm 激光能量具有高反射性。 CO2 激光器產(chǎn)生線性偏振激光束。 用于切割應(yīng)用的光束傳輸系統(tǒng)通過反射式相位延遲器 (RPR) 將線偏振轉(zhuǎn)換為圓偏振。 在這種類型的光束傳輸系統(tǒng)中,來自工件的反射能量被 RPR 轉(zhuǎn)換回線性偏振。 反射的線偏振平面與出射的線偏振激光束成 90°。 如果光束傳輸系統(tǒng)中的一個反射鏡被定向使得出射激光束為 S 偏振,則反射能量必須在該反射鏡處為 P 偏振。 ATFR 使其成為防止不需要的反射到達(dá)激光腔的理想反射鏡的特性是它對反射的 P 偏振激光束的吸收。
術(shù)語和定義
在討論如何使用反射鏡以及在光束傳輸系統(tǒng)中將其放置在何處之前,需要定義一些術(shù)語。 討論與某個參考點(diǎn)相關(guān)的偏振是方便的。 對于我們的討論,我們將說平面偏振是垂直的、水平的或與垂直平面成 45° 的方向。 當(dāng)平面偏振光束撞擊鏡面時,它可以稱為 S 偏振、P 偏振或與反射平面成 45° 的平面偏振。 此后,我們將把這最后的偏振稱為 45° 平面偏振。 圓偏振沒有特定的方向平面。 并且,當(dāng)圓偏振撞擊鏡面時,稱為圓偏振。
如何使用
使用 ATFR 反射鏡的僅有要求是:(1) 射向反射鏡的出射偏振必須是 S 偏振;(2) 光束傳輸系統(tǒng)包含一個 RPR,可將線性出射偏振轉(zhuǎn)換為圓偏振。 RPR 必須位于 ATFR 的下游,沿著激光束朝向工作表面的方向。 在決定反射鏡的位置時,必須首先確定激光器的輸出偏振——即它是垂直、水平還是 45° 平面偏振? 如果不確定激光器產(chǎn)生什么類型的偏振,較好的信息來源是激光器制造商。 以下是激光類型及其輸出偏振的一些示例。
下一步是定位 RPR 鏡像。 如果系統(tǒng)不使用 RPR 反射鏡,則必須先安裝一個,然后再將 ATFR 反射鏡安裝到光束傳輸系統(tǒng)中。 注意:RPR 鏡像必須安裝在 ATFR 鏡像的下游
很多時候,RPR 位于聚焦透鏡之前的最后一個彎曲鏡,盡管它可以位于光束傳輸路徑上的任何位置。 同樣,如果您不確定 RPR 鏡像的位置和位置,請聯(lián)系系統(tǒng)制造商。
ATFR 必須位于激光腔的輸出耦合器和位于激光頭下游某個點(diǎn)的 RPR 之間。 如果激光輸出偏振是已知的,就可以決定在哪里放置反射鏡。 由于 ATFR 反映了輸出的 S 極化,因此它的方向必須如下圖所示。 該圖假設(shè)出射激光束是垂直偏振的。 請注意,鏡子在水平面上反射光束,水平面可以是左面也可以是右面。
如果激光產(chǎn)生水平偏振,那么 ATFR 鏡將在垂直平面上反射光束,該平面可以向上或向下。
最后,對于更困難的 45° 平面偏振情況,必須將 ATFR 反射鏡定向?yàn)橐耘c垂直方向成 45° 的角度向上或向下反射光束。
同樣,反射鏡的位置必須能夠反射出射的 S 偏振光束。 如果系統(tǒng)中有一面面向 Spolarization 的鏡子,這很容易實(shí)現(xiàn)。 如果有這樣的鏡子,那么可以使用 ATFR 鏡子代替這面鏡子,并且不需要對光束傳輸系統(tǒng)進(jìn)行其他修改。
圖1
圖 1 是一個激光系統(tǒng)示例,其中第一個反射鏡已替換為 ATFR 反射鏡。 在本例中,激光產(chǎn)生水平偏振,因此 ATFR 被定位為在垂直方向反射光束。 該系統(tǒng)可以使用包含 RPR 的 2 或 4 反射鏡模塊將線偏振轉(zhuǎn)換為圓偏振。
激光隔離器的應(yīng)用 - 通過使用 ATFR 鏡作為第一鏡的系統(tǒng)改變偏振
圖 2
一些激光系統(tǒng)在光束傳輸系統(tǒng)中沒有定向反射 S 偏振的鏡子。 在其中一些系統(tǒng)中,添加另一個鏡子并不方便,因?yàn)樗鼤?dǎo)致光束以奇數(shù)角度或不期望的方向反射。 在這些情況下,添加一個不會改變激光束方向的 4 片反射鏡模塊(激光隔離器)可能是較簡單的方法。 此方案的示例如圖 2 所示。在此示例中,激光器產(chǎn)生平面偏振,包含 ATFR 反射鏡的 4 反射鏡模塊安裝在與垂直方向成 45° 角的位置。 這確保了 ATFR 反射鏡反射 S 偏振。
激光隔離器的應(yīng)用 - 通過使用型號 LI-10.6-28-ATFR-AC 的系統(tǒng)改變偏振
圖 3
圖 3 至圖 5 顯示了其他一些示例。 注意:如果 ATFR 安裝不正確,鏡子可能會損壞或毀壞。 如果 ATFR 安裝在 RPR 的下游,反射鏡將吸收 50% 的激光功率; 這可能會導(dǎo)致鍍膜被破壞。 如果 ATFR 安裝在 ATFR 將入射光束反射為 P 偏振的位置,則 100% 的光束將被吸收。 如果將 ATFR 放置在具有產(chǎn)生 45° 線偏振的激光器的光束傳輸系統(tǒng)中,并且 ATFR 將光束向左或向右或向上或向下反射,則 ATFR 將吸收 50% 的光束。
激光隔離器的應(yīng)用 - 通過使用 ATFR 鏡作為第一鏡的系統(tǒng)改變偏振
圖 4
使用型號 LI-10.6-28-ATFR-AC 的系統(tǒng)中的偏振變化
圖 5
激光隔離器的應(yīng)用 - 通過使用型號 LI-10.6-28-ATFR-AC 的系統(tǒng)改變偏振
輸出耦合器(部分反射器)
部分反射器通常用作激光輸出耦合器或光束衰減器。
激光輸出耦合器通常需要一個稍微楔形的基板,以消除組件內(nèi)部多重反射的干擾。如果您需要特定的楔形值,請?jiān)谟嗁彆r說明。
規(guī)格
規(guī)格 | 標(biāo)準(zhǔn) | |
尺寸公差 | 直徑厚度(平面)厚度(放射狀) | +0.000"-0.005"+0.005"-0.010"+/-0.010" |
并行性 | PlanoRadiused, Diameter < 1" Radiused, Diameter >= 1" | <= 3 arc minutes<= 10 arc minutes <= 5 arc minutes |
透明光圈(拋光 | 90%的直徑 | |
0.63µm處的表面圖(功率/不規(guī)則度)。 | 普拉諾輻射式 | 1個流蘇/0.5個流蘇(根據(jù)半徑不同而不同) |
表面挖掘 | 20-10 | |
側(cè)面1:10.6µm處的反射率公差 | 1%至5%:±0.5%xR。6%至85%。+3%86%至95%。 +1.5%96%至98%。+1%99%:+0.2%99.5%:+0.2% | |
側(cè)面2:10.6µm處的AR涂層反射率。 | <= 0.20% |
零件信息
部件號 | 說明 | 直徑(英寸) | 直徑(毫米) | 邊緣厚度(英寸) | 邊緣厚度(毫米) | 反射率 | 半徑**側(cè)面1/側(cè)面2 |
988175 | ZnSe | 1.0" | 25.4 | 0.236" | 5.99 | 65% | 30MCC/30MCX |
774314 | ZnSe | 1.0" | 25.4 | 0.236" | 5.99 | 50% | PO/PO |
132098 | ZnSe | 1.1" | 27.94 | 0.220" | 5.59 | 50% | 20MCC/15MCX |
346822* | ZnSe | 1.181" | 30.0 | 0.236" | 5.99 | 50% | 30MCC/30MCX |
554288 | ZnSe | 1.5" | 38.1 | 0.236" | 5.99 | 30% | 10MCC/10MCX |
187879 | ZnSe | 1.5" | 38.1 | 0.236" | 5.99 | UC | 10MCC/15MCX |
120765 | ZnSe | 1.5" | 38.1 | 0.236" | 5.99 | 30% | 20MCC/PO |
903007 | ZnSe | 2.0" | 50.8 | 0.300" | 7.62 | 48% | 30MCC/20MCX |
*MP-5®型涂料**M為米,CC為凹,CX為凸,PO為平。請聯(lián)系我們了解具體規(guī)格。 |
鋁制可變半徑反射鏡
II-VI 為高功率工業(yè)激光器推出了新的輕質(zhì)鋁制可變半徑反射鏡(VRM)。鋁制VRM系列的重量僅為同類銅制產(chǎn)品的18%,為原始設(shè)備制造商提供了更快的切割/焊接頭移動速度和更長的循環(huán)壽命。II-VI的鋁制VRM還具有低粗糙度的拋光表面,可用于1微米的應(yīng)用和高達(dá)20千瓦的激光功率的定制設(shè)計(jì)中。
特點(diǎn)
壓力范圍:0 - 11 bar0-11巴
橈。短至3個MCC-3個MCX*。
入射角。0° – 45°
標(biāo)準(zhǔn)可用的透明孔徑。20 - 40毫米
Roughness: < 30 ? (lower roughness, polished surface available)
Irregularity: < 3 fr at maximum/minimum radius
重量。與類似的銅質(zhì)設(shè)計(jì)相比,重量減少82%。
壽命。高達(dá)5億次
空氣和水驅(qū)動和冷卻*
高達(dá)20千瓦的激光功率*。
氧化物涂層*
輕量級設(shè)計(jì)*
面部冷卻選項(xiàng)*
降低電化學(xué)腐蝕電位
* 根據(jù)要求提供定制設(shè)計(jì)
粗糙度
材料比較
反射相位緩速器
金屬切割和其他關(guān)鍵的激光操作對切口寬度或橫截面的任何變化都很敏感。切口的質(zhì)量取決于相對于切割方向的偏振方向(圖1)。
目前的理論表明,聚焦光束以正常入射角撞擊工件的假設(shè)僅在切割開始時是正確的。一旦切口形成,光束就會以某個大的入射角θ遇到金屬,如圖2所示。相對于這樣的表面,s極化的光比p極化的光反射得更多,導(dǎo)致了切割質(zhì)量的差異。
將四分之一波(90°)反射式相位延遲器(RPR)引入光束傳輸路徑,通過將線性極化轉(zhuǎn)換為圓形極化來消除切口變化。圓極化由任何光束方向的等量s極化和p極化組成;因此,所有軸都遇到相同的極化成分,并且無論切割方向如何,材料都被均勻地去除。
線性偏振光束的方向是使偏振平面與入射平面成45°,并在與法線成45°的位置撞擊RPR(圖3)。反射的光束是圓偏振的。
基片的選擇取決于激光器運(yùn)行的功率水平??商峁┨娲?,包括水冷銅。也可提供第八波和第十六波RPR設(shè)計(jì),以及用于10.6微米以外的峰值波長的設(shè)計(jì)。請聯(lián)系II-VI 銷售代表以了解更多信息。
規(guī)格
規(guī)格 | 標(biāo)準(zhǔn) |
尺寸公差 | 直徑:+0.000"-0.005"。+0.000"-0.005" 厚度:+/-0.010+/-0.010" |
并行性 | <= 3 arc minutes |
透明光圈(拋光 | 90%的直徑 |
0.63µm處的表面圖(功率/不規(guī)則度)。 | <=2 fringes/0.5 fringe |
刮痕-凹陷 | 10-5 |
10.6µm的反射率 | >= 98% |
10.6µm @ 45o的相位延遲。 | 90o+/-3o |
橢圓度比 | 0.90-1.11 |
零件信息
部件號 | 說明 | 直徑(英寸) | 直徑(毫米) | 邊緣厚度(英寸) | 邊緣厚度(毫米) | 相移@ 10.6µm(度數(shù)) |
498237 | Si | 1.5 | 38.1 | 0.16 | 4.06 | 90+/-6 |
893833 | Si | 2.0 | 50.8 | 0.20 | 5.08 | 90+/-2 |
582132 | Si | 2.0 | 50.8 | 0.20 | 5.08 | 90+/-2 |
592353 | Si | 2.0 | 50.8 | 0.375 | 9.53 | 90+/-6 |
102719 | Si | 2.0 | 50.8 | 0.170 | 5 | 90+/-2 |
969917 | Si | 2.0 | 50.8 | 0.40 | 10.16 | 90+/-6 |
772930 | Si | 2.677 | 68 | 0.80 | 20.32 | 90+/-1 |
697768 | Si | 3.0 | 76.2 | 0.236 | 6 | 90+/-6 |
224094 | Si | 3.0 | 76.2 | 0.25 | 6.35 | 90+/-6 |
390686 | Cu | 1.5 | 38.1 | 0.25 | 6.35 | 90+/-6 |
666269 | Cu | 1.969 | 50 | 0.394 | 10 | 90+/-6 |
832944 | Cu | 2.25 | 57.15 | 0.394 | 10 | 90+/-2 |
488199 | Cu-WC* | 2.25 | 57.15 | 1.25 | 31.75 | 90+/-6 |
800102 | Cu | 2.362 | 60 | 0.394 | 10 | 90+/-2 |
634413 | Cu | 2.362 | 60 | 0.591 | 15 | 90+/-2 |
748680 | Cu | 3.0 | 76.2 | 0.50 | 12.7 | 90+/-6 |
744069 | Cu | 3.0 | 76.2 | 0.591 | 15 | 90+/-2 |
*Cu-WC:水冷銅。請聯(lián)系我們了解具體規(guī)格。 |
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